物理气相沉积三要素

三要素： 1) 镀料的气化。 即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。 2) 镀料原子、分子或离子的迁移。 由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。 3) 镀料原子、分子或离子在基体上沉积。 物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨...