光刻机的工作原理比较简单。原理是快速放大光源，使光源在几秒钟内发出的光脉冲波长大于被放大物质原子光谱的截面周长。并且所有组合的掩模对准器(计算机)应该具有相同的能量来完成光刻。光刻机会根据原子结构的性质，把它一个个切割成粒子。然后放大，让光线从凹槽里带出来，刻在光滑的平面上。现在光刻用的材料很多，很多是阳极树脂，玻璃，陶瓷，在工作应力下可以变形。

光刻技术原理

光刻就是制作芯片制作所需的电路和功能区域。利用掩模光刻机发出的光，通过带有图案的掩模对涂有光刻胶的薄片进行曝光，光刻胶看到光后会改变其性质，从而可以将掩模上的图案复制到薄片上，使薄片具有电子电路图的功能。这就是光刻的作用，类似相机摄影。相机拍摄的照片印在底片上，但电路图和其他电子元件是用光刻法蚀刻的，而不是照片。

光刻是一种精密的微加工技术。常规光刻是利用波长为2000 ~ 4500埃的紫外光作为图像信息的载体，以光刻胶作为中间(图像记录)介质，实现图像的转换、转移和处理，最终将图像信息转移到晶片(主要是硅片)或介质层上的工艺。